有機玻璃活性粒子濃度分析
有機玻璃刻蝕速率開始隨氣壓升高而增大，但是超過3.99Pa后，增大趨勢漸緩，當氣壓高過6.65Pa時，刻蝕速率則下降。自偏壓隨氣壓升高而連續降低。反應離子刻蝕是一個復雜的過程，包括物理濺射和化學刻蝕兩方面，自偏壓的大小間接反映了物理濺射作用的強弱。反應離子刻蝕有機玻璃是以化學刻蝕為主，同時離子碰撞作用也很重要。離子促進的刻蝕反應速率，它取決于離子能量分布和離子角度分布，屬各向異性刻蝕。
離子能量分布又取決于電壓和工作氣壓。工作氣壓低時，等離子體濃度低，化學刻蝕作用小；同時氣體分子平均自由程增大，相互間的碰撞幾率減少，離子能量升高，對PMMA的物理濺射作用加強。p=1.33Pa時，刻蝕速率較慢，說明此時氧活性粒子濃度低，化學刻蝕作用小；工作氣壓升高時，活性粒子濃度增大，化學刻蝕加強，同時離子能量減小，物理濺射作用減弱。p=1.33Pa升至6.65Pa時，總的刻蝕速率增加，表明此時刻蝕速率受氧濃度的控制。
當氣壓繼續升高時（超過6.65Pa），電子密度繼續降低，自偏壓降低，使離子能量繼續減小，物理濺射對化學刻蝕的促進作用不明顯，刻蝕速率又降低，說明此時刻蝕速率受表面離子流控制。p為3.99Pa時，圖形側壁陡直，p增到5.32Pa時，側壁被鉆蝕。圖形底部都較粗糙，有草狀殘留物，這可能是因為商品有機玻璃本身結構的不均勻導致刻蝕速率的不均勻而引起的。
